Speziell für das Imaging in der Industrie: Neue hochauflösende Hellfeld-Objektive von Olympus

MPLAPON – 50x- und 100x-Plan-Apochromat-Objektive

Hamburg, 25 Feb 2010 – Wenn es beim Imaging in materialwissenschaftlichen Anwendungen um die Korrektur der chromatischen Abberation geht, sind sie das Maß aller Dinge: die neuen plan-apochromatischen Objektive der MPLAPON-Reihe von Olympus. Sie sind Teil der erfolgreichen UIS-Serie und mit 50x- beziehungsweise 100x-Vergrößerung erhältlich. Die speziell für exzellentes Hellfeld-Imaging – inklusive DIC – entwickelten Modelle bieten eine numerische Apertur (N.A.) von 0,95 und sind vollständig kompatibel mit aktiven Autofokuseinheiten. Sie ermöglichen die einfache Aufnahme hochaufgelöster Bilder und empfehlen sich daher für die Inspektion kleinster Bereiche industrieller Proben, wie zum Beispiel Halbleitermuster.

Dank der besonders hohen Auflösung der MPLAPON-Objektive lassen sich einzelne Probenbereiche, die nur 0,35 µm voneinander entfernt sind, individuell beobachten und im Bild festhalten. Mit ihrer unvergleichlichen Korrektur chromatischer Abberationen über einen extrem großen Wellenlängenbereich liefern diese Plan-Objektive zudem außergewöhnlich geebnete und exakt fokussierte Weitfeldaufnahmen.

Kontrolle der Wellenfrontabberation

Es ist Teil der Unternehmensphilosophie von Olympus, ausschließlich Produkte von größtmöglicher Qualität zu liefern. Das Unternehmen stellt damit sicher, dass jedes Objektiv die gleich hohe Leistung liefert. In diesem Zusammenhang steht auch die Entwicklung des Prozesses zur „Wellenfrontabberationskontrolle“, der Eingang in die Produktion der Objektive der MPLAPON-Serie gefunden hat. Mit diesem einzigartigen Messinstrument ist es möglich, kleine Abberationen, die das menschliche Auge nicht erkennen kann, quantitativ zu messen und anschließend zu eleminieren. Das Ergebnis sind anspruchsvolle, qualitativ hochwertige Präzisionsobjektive mit Strehl-Ratios von mindestens 95 %.

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